This HTML5 document contains 65 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
wikipedia-huhttp://hu.wikipedia.org/wiki/
dcthttp://purl.org/dc/terms/
dbohttp://dbpedia.org/ontology/
foafhttp://xmlns.com/foaf/0.1/
n16http://users.wfu.edu/ucerkb/Nan242/
dbpedia-huhttp://hu.dbpedia.org/resource/
n20https://web.archive.org/web/20180428012111/http:/fizipedia.bme.hu/index.php/
prop-huhttp://hu.dbpedia.org/property/
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
freebasehttp://rdf.freebase.com/ns/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n14http://hu.dbpedia.org/resource/Sablon:
owlhttp://www.w3.org/2002/07/owl#
n10https://hu.wikipedia.org/wiki/F%C3%A1jl:
n18http://www.circuitstoday.com/
n5http://www.lithoguru.com/scientist/
provhttp://www.w3.org/ns/prov#
n17http://hu.dbpedia.org/resource/Sablon:Nanotechnológia_navoszlop/
n19http://fizipedia.bme.hu/index.php/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n13http://hu.dbpedia.org/resource/Kategória:

Statements

Subject Item
dbpedia-hu:Fotolitográfia
rdfs:label
Fotolitográfia
owl:sameAs
freebase:m.05xxx
dct:subject
n13:Nanotechnológia n13:Optika n13:Elektronika
dbo:wikiPageID
277866
dbo:wikiPageRevisionID
23646417
dbo:wikiPageExternalLink
n5:lithobasics.html%7Ctitle=The n10:NAND_scaling_timeline.png%7Cb%C3%A9lyegk%C3%A9p%7CFlash-mem%C3%B3ria n10:SM-180-BT-1.jpg%7Cbalra%7Cb%C3%A9lyegk%C3%A9p%7C142x142px%7CEgy n16:L15-Photolithography.pdf%7Ctitle=Photolithography n18:photolithography%7Ctitle=Photolithography%7Caccessdate=2017-12-08%7Cdate=2010-05-31%7Cwork=Circuits n19:V%C3%A9konyr%C3%A9teg_lev%C3%A1laszt%C3%A1s%7Ctitle=V%C3%A9konyr%C3%A9teg n20:V%C3%A9konyr%C3%A9teg_lev%C3%A1laszt%C3%A1s%7Carchivedate=2018-04-28
prop-hu:wikiPageUsesTemplate
n14:CitLib n14:Cite_book n14:H n17:Nanolitográfia n14:Cite_web n14:Jegyzetek n14:Más n14:Portál
prop-hu:alcím
Quantum states and electronic transport
prop-hu:cím
Semiconductor Nanostructures
prop-hu:first
David C. Y. Rainer Uzodinma Marc
prop-hu:hely
Oxford
prop-hu:isbn
9780199534432 978
prop-hu:kiadó
Oxford University Press
prop-hu:last
Waser Chang Okoroanyanwu Madou Bucknall
prop-hu:publisher
Woodhead Pub. CRC Press SPIE Wiley-VCH CRC Press McGraw-Hill
prop-hu:ref
harv
prop-hu:szerző
Thomas Ihn
prop-hu:title
Fundamentals of microfabrication and nanotechnology Chemistry and lithography Nanoelectronics and information technology : advanced electronic materials and novel devices ULSI technology Nanolithography and patterning techniques in microelectronics
prop-hu:year
1996 2005 2010 2012
prop-hu:év
2009
prop-hu:publicationPlace
Cambridge Boca Raton, FL Bellingham, Wash Boca Raton, FL New York Weinheim
dbo:abstract
A - és nanotechnológiában, illetve a a fotolitográfia egy olyan gyártási eljárás, melyet például mikroprocesszorok, és egyéb félvezető eszközök gyártására alkalmaznak. Az eljárás segítségével rendkívül kis méretű elektronikus áramkörök készíthetők: az így készült vezetők vastagsága mindössze néhány tíz nanométer; ez az úgynevezett „csíkszélesség”. Minimális csíkszélességnek nevezzük a kialakítható legkisebb alakzat méretét ez az ún. MFS (Minimal Feature Size). Az el­járás során a félvezető felületére felvitt speciális rétegen maszkot alakítanak ki, mely fény hatására eltávolíthatóvá válik, ezáltal a félvezetőn bizonyos miniatűr struktúrát hátrahagyva. Az így kialakított maszk bizonyos részeket el­szigetel, másokat elérhetővé tesz más technológiai eljárások számára. A mikroprocesszorok gyártása során számos ilyen, néhány tized mikrométer vastag réteg kerül egymás fölé, igen bonyolult áramköri struktúrát kialakítva ezzel. A régebbi, kisebb integráltsági fokú eszközöknél a megvilágításra egyszerű fénysugarakat használtak, mivel azonban az alkalmazott hullámhossz határt szab a kialakítható szerkezet méretének, a nanoméretekhez közelítve újabban a megvilágítást speciális optikai eszkö­zökkel, lézerrel, röntgensugarakkal végzik. A fotolitográfa módosulatai az elektron- és ionsugarakkal működő litográfiás berendezések is, melyek alkalmazásával az elérhető legkisebb csíkszélesség elméletileg 5 nm körül van, melyet a becslések szerint (lásd még: Moore-törvény) 2020-ra érnek el. Ez alatt a méret alatt technológiaváltásra lesz szükség.
prov:wasDerivedFrom
wikipedia-hu:Fotolitográfia?oldid=23646417&ns=0
dbo:wikiPageLength
10485
foaf:isPrimaryTopicOf
wikipedia-hu:Fotolitográfia
Subject Item
wikipedia-hu:Fotolitográfia
foaf:primaryTopic
dbpedia-hu:Fotolitográfia