| Property |
Value |
| dbo:abstract
|
- Az atomi rétegleválasztás (angol rövidítéssel ALD, atomic layer deposition) egy módszer a - és nanotechonlógiában. Az eljárás során gáz fázisban végbemenő kémiai reakciók segítségével atomi rétegenként alakítják ki egy hordozó felületén a vékonyréteget. Gyakran alkalmazott megvalósítása az ALCVD (atomic layer chemical vapor deposition), mely a kémiai gőzfázisú leválasztások csoportjába tartozik. (hu)
- Az atomi rétegleválasztás (angol rövidítéssel ALD, atomic layer deposition) egy módszer a - és nanotechonlógiában. Az eljárás során gáz fázisban végbemenő kémiai reakciók segítségével atomi rétegenként alakítják ki egy hordozó felületén a vékonyréteget. Gyakran alkalmazott megvalósítása az ALCVD (atomic layer chemical vapor deposition), mely a kémiai gőzfázisú leválasztások csoportjába tartozik. (hu)
|
| dbo:wikiPageExternalLink
| |
| dbo:wikiPageID
| |
| dbo:wikiPageLength
|
- 7307 (xsd:nonNegativeInteger)
|
| dbo:wikiPageRevisionID
| |
| prop-hu:wikiPageUsesTemplate
| |
| dct:subject
| |
| rdfs:label
|
- Atomi rétegleválasztás (hu)
- Atomi rétegleválasztás (hu)
|
| prov:wasDerivedFrom
| |
| foaf:isPrimaryTopicOf
| |
| is foaf:primaryTopic
of | |
