Property Value
dbo:abstract
  • A mikro- és nanotechnológiában vékonyréteg-leválasztásnak azt a folyamatot nevezik, amikor fizikai vagy kémiai reakció segítségével egy anyag (hordozó) felületén vékonyréteg épülését idézik elő. A réteg épülése tipikusan néhányszor tíz-száz nanométeres mérettartományon kontrollálható, de például atomi rétegek is leválaszthatók. Az eljárást többek között optikai elemek gyártásakor (például reflexiós, vagy , dielektrikumtükrök kialakítására), elektronikában és (az integrált áramkörök egymáson kialakított vezető, félvezető és szigetelő rétegekből állnak), csomagolástechnikában (például alumíniumbevonatos PET fólia) alkalmazzák. A rétegleválasztási eljárások két alapvető kategóriába sorolhatók. A vékonyréteg létrejöttét meghatározó folyamat szerint megkülönböztetnek kémiai és fizikai elvű rétegleválasztásokat. (hu)
  • A mikro- és nanotechnológiában vékonyréteg-leválasztásnak azt a folyamatot nevezik, amikor fizikai vagy kémiai reakció segítségével egy anyag (hordozó) felületén vékonyréteg épülését idézik elő. A réteg épülése tipikusan néhányszor tíz-száz nanométeres mérettartományon kontrollálható, de például atomi rétegek is leválaszthatók. Az eljárást többek között optikai elemek gyártásakor (például reflexiós, vagy , dielektrikumtükrök kialakítására), elektronikában és (az integrált áramkörök egymáson kialakított vezető, félvezető és szigetelő rétegekből állnak), csomagolástechnikában (például alumíniumbevonatos PET fólia) alkalmazzák. A rétegleválasztási eljárások két alapvető kategóriába sorolhatók. A vékonyréteg létrejöttét meghatározó folyamat szerint megkülönböztetnek kémiai és fizikai elvű rétegleválasztásokat. (hu)
dbo:wikiPageExternalLink
dbo:wikiPageID
  • 1462069 (xsd:integer)
dbo:wikiPageLength
  • 20189 (xsd:nonNegativeInteger)
dbo:wikiPageRevisionID
  • 22939861 (xsd:integer)
prop-hu:author
  • D.M. Mattox (hu)
  • M. Ohring (hu)
  • K. Seshan, ed. (hu)
  • M. Birkholz, with contributions by P.F. Fewster and C. Genzel (hu)
  • D.M. Mattox (hu)
  • M. Ohring (hu)
  • K. Seshan, ed. (hu)
  • M. Birkholz, with contributions by P.F. Fewster and C. Genzel (hu)
prop-hu:cím
  • Szilárdtestek felületfizikája (hu)
  • Szilárdtestek felületfizikája (hu)
prop-hu:edition
  • 2 (xsd:integer)
  • 3.0
prop-hu:hely
  • Budapest (hu)
  • Budapest (hu)
prop-hu:isbn
  • 0 (xsd:integer)
  • 978 (xsd:integer)
  • 9780125249751 (xsd:decimal)
  • 9789631071115 (xsd:decimal)
prop-hu:kiadó
  • Műszaki Könyvkiadó (hu)
  • Műszaki Könyvkiadó (hu)
prop-hu:location
  • Boston (hu)
  • Amsterdam (hu)
  • Norwich (hu)
  • Weinheim (hu)
  • Boston (hu)
  • Amsterdam (hu)
  • Norwich (hu)
  • Weinheim (hu)
prop-hu:publisher
  • Academic Press (hu)
  • Elsevier (hu)
  • Noyes / William Andrew Publishing (hu)
  • Wiley-VCH (hu)
  • Academic Press (hu)
  • Elsevier (hu)
  • Noyes / William Andrew Publishing (hu)
  • Wiley-VCH (hu)
prop-hu:szerző
  • Giber János és szerzőtársai (hu)
  • Giber János és szerzőtársai (hu)
prop-hu:title
prop-hu:wikiPageUsesTemplate
prop-hu:year
  • 2001 (xsd:integer)
  • 2003 (xsd:integer)
  • 2005 (xsd:integer)
  • 2012 (xsd:integer)
prop-hu:év
  • 1987 (xsd:integer)
dct:subject
rdfs:label
  • Vékonyréteg-leválasztás (hu)
  • Vékonyréteg-leválasztás (hu)
prov:wasDerivedFrom
foaf:isPrimaryTopicOf
is foaf:primaryTopic of