Property Value
dbo:abstract
  • A fizikai gőzfázisú leválasztás (angol rövidítéssel PVD, physical vapor deposition) a vékonyréteg-leválasztás egy lehetséges módszere, amelyet vékonyrétegek kialakítására alkalmaznak a - és a nanotechnológiában. A PVD-módszerek általános jellemzője az, hogy egy kezdetben jellemzően szilárd vagy folyékony halmazállapotban levő anyagot gőzfázisba juttatnak, mely egy kívánt hordozó felületén újra szilárd állapotba jut, így alakítva ki a felületi réteget. A PVD sokféleképpen valósítható meg. Az egyes módszerek általában abban különböznek, hogy a leválasztandó anyag hogyan kerül gőzfázisba, és hogy milyen mérnöki megvalósításokat alkalmaznak. A két alapvető módszer a és a . A megvalósítás hatással lehet arra, hogy a hordozón milyen kémiai összetételű, milyen fizikai tulajdonsággal (pl. sűrűséggel, kristályossággal, kristályiránnyal) jellemezhető réteg alakul ki. Különféle anyagok és hordozók is speciális eljárásokat igényelhetnek. A PVD az ipari és kutatói gyakorlatban elterjedt módszer, amelyet például optikai bevonatok kialakítására, felületkezelésre, egyes mikro-és nanoszerkezetű eszközök gyártására alkalmaznak. (hu)
  • A fizikai gőzfázisú leválasztás (angol rövidítéssel PVD, physical vapor deposition) a vékonyréteg-leválasztás egy lehetséges módszere, amelyet vékonyrétegek kialakítására alkalmaznak a - és a nanotechnológiában. A PVD-módszerek általános jellemzője az, hogy egy kezdetben jellemzően szilárd vagy folyékony halmazállapotban levő anyagot gőzfázisba juttatnak, mely egy kívánt hordozó felületén újra szilárd állapotba jut, így alakítva ki a felületi réteget. A PVD sokféleképpen valósítható meg. Az egyes módszerek általában abban különböznek, hogy a leválasztandó anyag hogyan kerül gőzfázisba, és hogy milyen mérnöki megvalósításokat alkalmaznak. A két alapvető módszer a és a . A megvalósítás hatással lehet arra, hogy a hordozón milyen kémiai összetételű, milyen fizikai tulajdonsággal (pl. sűrűséggel, kristályossággal, kristályiránnyal) jellemezhető réteg alakul ki. Különféle anyagok és hordozók is speciális eljárásokat igényelhetnek. A PVD az ipari és kutatói gyakorlatban elterjedt módszer, amelyet például optikai bevonatok kialakítására, felületkezelésre, egyes mikro-és nanoszerkezetű eszközök gyártására alkalmaznak. (hu)
dbo:wikiPageExternalLink
dbo:wikiPageID
  • 1551281 (xsd:integer)
dbo:wikiPageLength
  • 14878 (xsd:nonNegativeInteger)
dbo:wikiPageRevisionID
  • 22775118 (xsd:integer)
prop-hu:author
  • D.M. Mattox (hu)
  • M. Ohring (hu)
  • D.M. Mattox (hu)
  • M. Ohring (hu)
prop-hu:cím
  • Szilárdtestek felületfizikája (hu)
  • Szilárdtestek felületfizikája (hu)
prop-hu:edition
  • 2 (xsd:integer)
prop-hu:first
  • Rainer (hu)
  • Rainer (hu)
prop-hu:hely
  • Budapest (hu)
  • Budapest (hu)
prop-hu:isbn
  • 0 (xsd:integer)
  • 978 (xsd:integer)
  • 9780125249751 (xsd:decimal)
  • 9789631071115 (xsd:decimal)
prop-hu:kiadó
  • Műszaki Könyvkiadó (hu)
  • Műszaki Könyvkiadó (hu)
prop-hu:last
  • Waser (hu)
  • Waser (hu)
prop-hu:location
  • Boston (hu)
  • Norwich (hu)
  • Boston (hu)
  • Norwich (hu)
prop-hu:oclc
  • 50056108 (xsd:integer)
prop-hu:publicationPlace
  • Weinheim (hu)
  • Weinheim (hu)
prop-hu:publisher
prop-hu:szerző
  • Giber János és szerzőtársai (hu)
  • Giber János és szerzőtársai (hu)
prop-hu:title
prop-hu:wikiPageUsesTemplate
prop-hu:year
  • 2001 (xsd:integer)
  • 2003 (xsd:integer)
prop-hu:év
  • 1987 (xsd:integer)
dct:subject
rdfs:label
  • Fizikai gőzfázisú leválasztás (hu)
  • Fizikai gőzfázisú leválasztás (hu)
prov:wasDerivedFrom
foaf:isPrimaryTopicOf
is foaf:primaryTopic of