| dbo:abstract
|
- A kémiai gÅ‘zfázisú leválasztás (angol rövidÃtéssel CVD, chemical vapor deposition) a vékonyréteg-leválasztás egy lehetséges módszere, amelyet vékonyrétegek kialakÃtására alkalmaznak a - és a nanotechnológiában. A CVD-módszerek általános jellemzÅ‘je az, hogy egy gázfázisban juttatott anyag kémiai reakció eredményeképpen egy hordozó felületére válik le, melyen rétegbevonatot képez. A CVD során a felületen adszorbeálódott atomok reakcióba lépnek, mely lehet például pirolÃzis, oxidáció vagy reduckió, hidrolÃzis stb. A kiinduló anyagok atomjainak reakciója következtében létrejövÅ‘ egyes termékek alakÃtják ki a felületi réteget, mÃg más reakciótermékeket elszÃvással eltávolÃtanak. (hu)
- A kémiai gÅ‘zfázisú leválasztás (angol rövidÃtéssel CVD, chemical vapor deposition) a vékonyréteg-leválasztás egy lehetséges módszere, amelyet vékonyrétegek kialakÃtására alkalmaznak a - és a nanotechnológiában. A CVD-módszerek általános jellemzÅ‘je az, hogy egy gázfázisban juttatott anyag kémiai reakció eredményeképpen egy hordozó felületére válik le, melyen rétegbevonatot képez. A CVD során a felületen adszorbeálódott atomok reakcióba lépnek, mely lehet például pirolÃzis, oxidáció vagy reduckió, hidrolÃzis stb. A kiinduló anyagok atomjainak reakciója következtében létrejövÅ‘ egyes termékek alakÃtják ki a felületi réteget, mÃg más reakciótermékeket elszÃvással eltávolÃtanak. (hu)
|
| rdfs:comment
|
- A kémiai gÅ‘zfázisú leválasztás (angol rövidÃtéssel CVD, chemical vapor deposition) a vékonyréteg-leválasztás egy lehetséges módszere, amelyet vékonyrétegek kialakÃtására alkalmaznak a - és a nanotechnológiában. A CVD-módszerek általános jellemzÅ‘je az, hogy egy gázfázisban juttatott anyag kémiai reakció eredményeképpen egy hordozó felületére válik le, melyen rétegbevonatot képez. (hu)
- A kémiai gÅ‘zfázisú leválasztás (angol rövidÃtéssel CVD, chemical vapor deposition) a vékonyréteg-leválasztás egy lehetséges módszere, amelyet vékonyrétegek kialakÃtására alkalmaznak a - és a nanotechnológiában. A CVD-módszerek általános jellemzÅ‘je az, hogy egy gázfázisban juttatott anyag kémiai reakció eredményeképpen egy hordozó felületére válik le, melyen rétegbevonatot képez. (hu)
|
