| dbo:abstract
|
- A kémiai gőzfázisú leválasztás (angol rövidítéssel CVD, chemical vapor deposition) a vékonyréteg-leválasztás egy lehetséges módszere, amelyet vékonyrétegek kialakítására alkalmaznak a - és a nanotechnológiában. A CVD-módszerek általános jellemzője az, hogy egy gázfázisban juttatott anyag kémiai reakció eredményeképpen egy hordozó felületére válik le, melyen rétegbevonatot képez. A CVD során a felületen adszorbeálódott atomok reakcióba lépnek, mely lehet például pirolízis, oxidáció vagy reduckió, hidrolízis stb. A kiinduló anyagok atomjainak reakciója következtében létrejövő egyes termékek alakítják ki a felületi réteget, míg más reakciótermékeket elszívással eltávolítanak. (hu)
- A kémiai gőzfázisú leválasztás (angol rövidítéssel CVD, chemical vapor deposition) a vékonyréteg-leválasztás egy lehetséges módszere, amelyet vékonyrétegek kialakítására alkalmaznak a - és a nanotechnológiában. A CVD-módszerek általános jellemzője az, hogy egy gázfázisban juttatott anyag kémiai reakció eredményeképpen egy hordozó felületére válik le, melyen rétegbevonatot képez. A CVD során a felületen adszorbeálódott atomok reakcióba lépnek, mely lehet például pirolízis, oxidáció vagy reduckió, hidrolízis stb. A kiinduló anyagok atomjainak reakciója következtében létrejövő egyes termékek alakítják ki a felületi réteget, míg más reakciótermékeket elszívással eltávolítanak. (hu)
|
